納米顆粒跟蹤分析儀是一種基于納米顆粒跟蹤分析（NTA）技術(shù)的高精度物理性能測(cè)試儀器，主要用于測(cè)量納米顆粒的粒徑、濃度及Zeta電位等多參數(shù)信息。該儀器通過激光照射納米顆粒懸浮液，利用高分辨率顯微鏡捕捉顆粒的布朗運(yùn)動(dòng)軌跡，并結(jié)合專用軟件分析粒徑分布。其核心在于通過追蹤單個(gè)顆粒的隨機(jī)運(yùn)動(dòng)，結(jié)合斯托克斯-愛因斯坦方程，推算出顆粒的流體力學(xué)半徑，實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量。部分儀器還集成了微電泳技術(shù)，可同步測(cè)定Zeta電位，反映顆粒表面電荷特性。

　　為確保測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性和可靠性，納米顆粒跟蹤分析儀使用前的準(zhǔn)備工作至關(guān)重要。以下是關(guān)鍵步驟：

　　1、樣品準(zhǔn)備

　　分散介質(zhì)選擇：

　　根據(jù)樣品性質(zhì)選擇合適的分散介質(zhì)（如超純水、生理鹽水、乙醇等），確保介質(zhì)與樣品相容且無反應(yīng)。

　　對(duì)于生物樣品（如細(xì)胞外囊泡、蛋白質(zhì)復(fù)合物），需使用等滲緩沖液（如PBS）維持滲透壓和pH穩(wěn)定性。

　　樣品稀釋與過濾：

　　將樣品稀釋至最佳濃度范圍（通常10??~10??g/mL），避免濃度過高導(dǎo)致顆粒重疊或多重散射。

　　使用濾膜（如0.22μm或更小孔徑）過濾樣品，去除雜質(zhì)、聚集體或大顆粒干擾。

　　超聲/攪拌處理：

　　通過超聲（10-30分鐘）或磁力攪拌均勻分散樣品，避免顆粒團(tuán)聚。注意控制超聲功率，防止樣品降解或氣泡引入。

　　2、儀器檢查與校準(zhǔn)

　　儀器預(yù)熱與自檢：

　　提前開機(jī)預(yù)熱（約30分鐘），確保激光光源、檢測(cè)器和流體系統(tǒng)穩(wěn)定。

　　執(zhí)行儀器自檢程序，檢查光路、流速和軟件連接是否正常。

　　校準(zhǔn)操作：

　　光學(xué)校準(zhǔn)：使用標(biāo)準(zhǔn)樣品（如已知粒徑的聚苯乙烯納米球）驗(yàn)證儀器精度，調(diào)整激光強(qiáng)度和檢測(cè)閾值。

　　流速校準(zhǔn)：若儀器配備流動(dòng)池，需調(diào)節(jié)流速（通常0.5-5 mL/min）并檢查鞘液（如超純水）供應(yīng)是否穩(wěn)定。

　　折射率設(shè)置：輸入樣品和分散介質(zhì)的折射率（需提前通過文獻(xiàn)或阿貝折光儀測(cè)定）。

　　3、測(cè)量參數(shù)設(shè)置

　　模式選擇：

　　根據(jù)需求選擇測(cè)量模式：動(dòng)態(tài)光散射（DLS）用于粒徑分布，納米顆粒跟蹤分析（NTA）用于單個(gè)顆粒可視化和濃度分析。

　　參數(shù)配置：

　　設(shè)置溫度（通常25℃）和測(cè)量時(shí)間（如DLS需足夠時(shí)間采集相關(guān)函數(shù)）。

　　調(diào)整相機(jī)曝光時(shí)間和幀率，確保顆粒運(yùn)動(dòng)軌跡清晰可追蹤。

　　設(shè)定分析閾值（如信噪比>10），排除噪聲干擾。

　　4、環(huán)境與耗材準(zhǔn)備

　　環(huán)境控制：

　　確保實(shí)驗(yàn)室溫度穩(wěn)定（±1℃），避免氣流或振動(dòng)干擾測(cè)量。

　　清潔操作臺(tái)面，防止灰塵污染樣品或儀器。

　　耗材檢查：

　　使用無塵紙或?qū)Ｓ霉ぞ咔鍧嵄壬?流動(dòng)池，避免指紋或劃痕影響光路。

　　更換新鮮鞘液（如超純水），確保流動(dòng)系統(tǒng)潔凈。

　　5、預(yù)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證

　　空白對(duì)照：

　　測(cè)量分散介質(zhì)的背景信號(hào)，確認(rèn)無雜散光或氣泡干擾。

　　樣品預(yù)測(cè)試：

　　注入少量樣品進(jìn)行預(yù)測(cè)試，觀察粒徑分布和濃度是否合理。若結(jié)果異常（如粒徑過大或過小），需重新處理樣品或調(diào)整參數(shù)。

　　6、數(shù)據(jù)管理與記錄

　　信息錄入：

　　輸入樣品名稱、濃度、批次號(hào)等基本信息，便于數(shù)據(jù)追溯。

　　方法保存：

　　保存校準(zhǔn)參數(shù)和測(cè)量條件（如流速、溫度、折射率），建立標(biāo)準(zhǔn)化操作流程（SOP）。